產品名稱:薄膜(mo)測厚儀
主要技術(shu)指標:
測量范圍(VIS):15nm—100μm
測量重復性(xing)(RMS):0.086nm
測(ce)量精(jing)度(du)(與橢偏儀對(dui)比):0.25nm
測(ce)量層(ceng)數:大于(yu)3層(ceng)
使用光源(yuan):鹵素燈;
入射角度:90°
測試材(cai)料:透明或(huo)半透明薄膜材(cai)料;
光斑尺(chi)寸:20μm—3mm(可選)
測量時(shi)間:100ms—4ms;
通信接口:USB2.0
產品特點:
采(cai)用(yong)光譜干涉(she)原理進行(xing)測量,具有非接觸、無(wu)破壞、快速等特點;
可在(zai)真空環境使用;可與(yu)大(da)行程工(gong)件臺配合,實現大(da)面積膜厚自(zi)動(dong)測量。
薄膜測厚儀測試數據:
薄(bo)膜測厚儀設備(bei)組(zu)成:
測試主機、光纖、校正件、測量頭、夾持裝置、設備(bei)箱(xiang)、手提電腦。